收藏!2023年全球CMP抛光液产业技术竞争格局(附区域申请分布、申请人排名、专利申请集中度等)
行业主要上市公司:安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等
本文核心数据:技术来源国、专利申请人排名、专利申请新进入者、市场最高专利价值
全文统计口径说明:1)搜索关键词:CMP抛光液及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围:标题、摘要和权利说明;3)筛选条件:简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT进入指定国(指定期),简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4)统计截至日期:2023年4月17日。5)若有特殊统计口径会在图表下方备注。
1、全球CMP抛光液技术区域竞争格局
(1)技术来源国分布:中国大陆占比最高
目前,全球CMP抛光液第一大技术来源国为中国,中国大陆CMP抛光液专利申请量占全球CMP抛光液专利总申请量的33%以上;其次是美国,美国CMP抛光液专利申请量占全球CMP抛光液专利总申请量的27%左右。
统计说明:①按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计,并选择公开日最新的文本计算。②按照专利优先权国家进行统计,若无优先权,则按照受理局国家计算。如果有多个优先权国家,则按照最早优先权国家计算。
(2)专利申请趋势:中国和美国为主要来源国,中国专利数量持续领先
从趋势上看,2004-2021年,中国为主要CMP抛光液专利来源国家,多年数量保持领先,且数量差距在不断扩大。来自于美国的专利数量仅次于中国。2022年来自于中国的CMP抛光液专利数量达到76项。
统计说明:①按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计,并选择公开日最新的文本计算。②按照专利优先权国家进行统计,若无优先权,则按照受理局国家计算。如果有多个优先权国家,则按照最早优先权国家计算。
(3)中国区域专利申请分布:上海专利数量持续领先
中国方面,上海为中国当前申请CMP抛光液专利数量最多的省份,当前累计CMP抛光液专利申请数量达221项。广东申请CMP抛光液专利数量超过30项。中国当前申请省(市、自治区)CMP抛光液专利数量排名前十的省份还有山东、江苏、辽宁、天津、北京、浙江、台湾和四川。
统计口径说明:按照专利申请人提交的地址统计。
趋势方面,2004年开始上海CMP抛光液专利申请数量保持着全国第一的位置,2021年被广东、山东等省市赶超。整体来看,上海的数量优势比较明显,以广东为代表的地区也在不断发展。
统计口径说明:按照专利申请人提交的地址统计。
2、全球CMP抛光液技术申请人竞争格局
(1)专利申请人集中度:市场集中度较高,CR10波动变化
2004-2023年4月,全球CMP抛光液专利申请人CR10呈现波动变化的趋势,由2004年的81.25%波动增长至2023年4月的100.00%。整体来看,全球CMP抛光液专利申请人集中度较高。
统计口径说明:市场集中度——CR10为申请总量排名前10位的申请人的专利申请量占该领域专利申请总量的比例(其中,有联合申请时,专利数量不会被去重计算)。
(2)TOP10专利申请人
——总量及趋势:安集科技夺得桂冠,领先优势较为明显
全球CMP抛光液产业专利申请数量TOP10申请人分别是安集微电子(上海)有限公司、安集微电子科技(上海)股份有限公司、RESONAC CORP、罗门哈斯电子材料CMP控股公司、弗萨姆材料美国有限责任公司、秀博瑞殷股份有限公司、台湾积体电路制造股份有限公司、大连理工大学、上海新安纳电子科技有限公司和凯斯科技股份有限公司。
其中,安集微电子(上海)有限公司和安集微电子科技(上海)股份有限公司CMP抛光液专利申请数量分别为117项和86项。
注:未剔除联合申请数量。
趋势方面,2004-2023年4月各个公司年申请量整体呈现波动态势。整体来看,安集科技于2007年建立起数量优势,并保持领先。RESONAC CORP 2015年的CMP抛光液相关专利申请数量超过安集科技并建立起自己的优势。
——专利技术分布:C09G1专利申请数量较多
目前,全球CMP抛光液产业专利申请数量TOP10申请人技术主要布局在C09G1专利,其中全球CMP抛光液专利申请量第一的安集微电子(上海)有限公司该专利申请量达到114项。
(3)市场价值最高TOP10专利的申请人:以国外专利为主
全球CMP抛光液市场价值最高TOP10专利中,以国外专利为主,价值均在400以上。可见虽然中国专利数量占比较大,但价值层面,国外专利更胜一筹。
注:最有价值的专利是指该技术领域内具有最高专利价值的简单同族。当前统计口径按每组简单同族一个专利代表的去重规则进行统计,并选择同族中有专利价值的任意一件专利进行显示。
(4)专利申请新进入者:十大新进入者
近五年中国企业在CMP抛光液产业表现较为活跃,全球十大新进入者中以中国企业为主。其中主要包括万华化学等企业。
新进入者定义:仅在过去5年内才提交专利申请的申请人。
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